|
Geräteausstattung
Beschichtung
Anlage zur Oberflächenaktivierung (Plasmabehandlung)
Probengröße: 45 x 25 cm
Zuführung von Prozessgas möglich
Spin Coater
Geschwindigkeit, Beschleunigung, Bearbeitungszeit
variabel einstell- und programmierbar, auch Hand-Betrieb möglich
Substratgröße: max. ca. 100 x 100 mm
Drehzahl: max. 8000 rpm
Doctor Blade (automatisches Filmaufziehgerät)
variable Spaltbreite (4, 6, 8, 10 µm bis 1 mm)
Laufweglänge: 15 - 45 cm
Spiralrakel: max. 150 mm breit
Kastenrakel: max: 170 mm breit
Geschwindigkeit: 5 mm/s - 100 mm/s
Kleintechnische Rolle-zu-Rolle-Beschichtungsanlage
für Nanoschichten
- Slot Die Coating Machine for Low Viscosity Fluids -
| Antrag: |
temperierbare Gießer
Dosiereinrichtung
variable Gießerposition an Antragswalze |
| Substratdicke: |
ca. 70 - 200 µm |
| Substratbreite: |
50 - 200 mm, variabel |
| Bahngeschwindigkeit: |
0 - 10 m/min (Bahnkantenregelung) |
| Vorbehandlung: |
Corona (auch für leitfähige Materialien) |
| Transportsystem: |
Glattwalzen, schichtseitig Bordwalzen Standardwickelkern 3
Zoll |
| Trocknung: |
konvektive Lufttrocknung (max. 110°C Dauerbetrieb)
Trocknerleistung: ~ 1,5 kg H2O/h
Trocknerlänge: 13 m
regelbares IR-Trocknerfeld
- kurzwelliger Hellstrahler
- lang- und mittelwelliger STIR®-Strahler |
für:
- Flächenhafte Nassbeschichtung
- Schmalbandbeschichtung mit Fokus auf "Dünne
Schichten" (Trockenschichtdicke < 1µm)
- Wässrige u. lösemittelhaltige Systeme;
- Beschichtung von Polymeren (Lösung, Dispersionen,
niedrigviskos)
mit:
- erweiterungsfähiger modularer Aufbau
- Minipumpstation für geringe Ansatzmengen

Sputter Coater
(mit Schichtdickenmessgerät)
Sputtern von
Gold, Palladium, Platin, Nickel, Silber und Kohle möglich Sputterkammerdurchmesser:
150 mm
Sputterkammerhöhe: 135 mm
|