Wesentliche Geräteausstattung

Präparationstechnik:

Reinraum 3,40 x 2,60 m²
Spincoater Semitec CPS 20
Bedampfungsanlage Leybold UNIVEX 300
Glovebox Uni-Lab 1200 mit integrierter Gasreinigung
Sputtercoater SC 46-70 Polaron

Schichtcharakterisierung und -dickenmessung:

Spectrometric Ellipsometer Woollam M 44 (multi wave lengths: 600 - 1200 nm) mit Electronic Control Module EC 270
Konfokales Weißlichtmikroskop µSurf
Rasterelektronenmikroskop Tesla BSE 340 mit EDX

Strukturierungstechnik:

Excimerlaser Compex 205 (optimiert für die Wellenlänge 248 nm)
Argonionenlaser (Hauptwellenlänge 488 nm)
Nd:YAG-Laser ( λ= 1064 nm)
X-Y-Positioniertisch (Positioniergenauigkeit 1 µm)
Rolle-zu-Rolle-Anlage mit Ansteuerungselektronik zur zeit- und ortsgenauen Lasertriggerung
FB-Plotter ProMat C30s mit Eigenbaudruckköpfen

Zur Messung elektronischer Parameter:

Hewlett Packard Modular DC Source Monitor Units HP 4142 B
3 SMU 40 µV - 100 V und 20 fA - 100 mA
1 SMU 40 µV - 200 V und 20 fA - 1 A
RLC-Meter HP 4284
Wafer Prober PM5 (Karl Suss KG)