Nassbeschichtung

Am TITK stehen für Technologieentwicklungen vom Labormaßstab bis zum "upscaling" auf kleintechnische Rolle-zu-Rolle-Anlagen zur Herstellung polymerbasierter dünner funktioneller Schichten (µm bis nm Bereich - auch im Mehrschichtverbund) für starre und flexible Substrate zur Verfügung.

Die Arbeitsfelder für Nassbeschichtung umfassen  hauptsächlich die Bereiche Polymerelektronik & Polymerphotovoltaik und Sensoren & Aktuatoren. Mögliche Anwendungen bieten sich in der Informations-, Kommunikations- und Medientechnik, der Mikroelektronik, Mikrosystem-, Medizin- und Verkehrstechnik an.

Technische Ausstattung zum diskontinuierlichen Beschichten:

  • Anlage zur Oberflächenaktivierung (Plasmabehandlung)
    • Probengröße: 45 x 25 cm
    • Zuführung von Prozessgas möglich
  • Spin Coater „Semitec CPS 20“
    • Geschwindigkeit, Beschleunigung, Bearbeitungszeit variabel einstell- und programmierbar, auch Hand-Betrieb möglich
    • Substratgröße: max. ca. 100 x 100 mm
    • Drehzahl: max. 8.000 rpm
  • Doctor Blade (automatisches Filmaufziehgerät) Rakel Typ „AF ah“ (Fa. Simex)
    • variable Spaltbreite (4, 6, 8, 10 µm bis 1 mm)
    • Laufweglänge: 15 - 45 cm
    • Spiralrakel: max. 150 mm breit
    • Kastenrakel: max. 170 mm breit
    • Geschwindigkeit: 5 mm/s - 100 mm/s
    • Heizbarer Vakuum-Probentisch
  • Stand-alone Tauchbeschichter (Dip-Coater  KSV-DX2)
    • Für SAM, Sol-Gel-Beschichtung
    • Tauchgeschwindigkeit 0,2 - 240 mm/min kontinuierlich einstellbar
    • Tauchlänge 150 mm
  • Spin Coater  „Cee 300 X“ (Brewer Science)
    • Proben-Durchmesser 9 bis max. 450 mm
    • spezielle Chucks für Glassubstrate (30 x 30 cm x 1 mm, 35 x 35 cm x 1 mm) und Foliesubstrate (35 cm x 35 cm) (Special Ceramic Insert Chuck)
  • Spray Coating  (High Performance Plus HP-BC1P, IWATA) 
  • Inkjet-Drucker (DIMATIX Materials Printer DMP-2831)

 

Zur Vorbereitung und Nachbehandlung von Beschichtungsmitteln z.B. für thermo- und elektrochromer Module oder Barriereschichtsysteme stehen zur Verfügung:

  • UV-Härtung (120 W/cm;3.600 mJ/cm², 200 - 450 nm)
  • Reinraum (3,40 m x 2,60 m)
  • GloveboxUni-Lab 1200 mit integrierter Gasreinigung
  • FT-IR-Spektrometer „EQUINOX 55” (Bruker) mit IR-Mikroskop